El objetivo del recubrimiento es una fuente de pulverización catódica que forma varias películas funcionales sobre el sustrato mediante pulverización catódica en condiciones de proceso apropiadas mediante pulverización catódica con magnetrón, revestimiento iónico de múltiples arcos u otros tipos de sistemas de recubrimiento. FANMETAL puede proporcionar varios objetivos de recubrimiento metálico, como99,95% objetivos de pulverización catódica de circonio, Objetivos de pulverización catódica de cromo de alta purezao objetivos de pulverización catódica de boro al 99,5%. Bienvenido a contactarnos por correo electrónico.
1. Revestimiento decorativo
El revestimiento decorativo se refiere principalmente al revestimiento de superficies de teléfonos móviles, relojes, gafas, artículos sanitarios, piezas de hardware y otros productos. No solo tiene el efecto de embellecer el color, sino que también tiene las funciones de resistencia al desgaste y resistencia a la corrosión. Los principales tipos de objetivos para recubrimientos decorativos incluyen: objetivo de cromo (Cr), objetivo de titanio (Ti), circonio (Zr), níquel (Ni), tungsteno (W), objetivo de titanio y aluminio (TiAl), objetivo de acero inoxidable, etc.
2. Recubrimiento de herramientas y moldes
Se utiliza principalmente para mejorar la apariencia de las herramientas de procesamiento, lo que puede mejorar significativamente la vida útil de los moldes y la calidad de las piezas procesadas. Según las estadísticas, la proporción de recubrimiento de las herramientas de mecanizado en los países desarrollados ha superado el 90%. La proporción de revestimiento de herramientas en nuestro país también aumenta constantemente y la demanda de materiales específicos para el revestimiento de herramientas aumenta día a día. Los principales tipos son: objetivo de TiAl, objetivo de cromo aluminio (CrAl), objetivo de Cr, objetivo de Ti, etc.
3. Recubrimiento protector
Se aplica principalmente al sustrato para proteger y extender su vida útil. Las películas protectoras incluyen películas protectoras contra la corrosión, películas lubricantes y películas protectoras térmicas. Las películas pulverizadas de TiC y las películas pulverizadas de BN se utilizan a menudo como recubrimientos de alta dureza en herramientas de corte y rectificado.
4. Revestimiento eléctrico
Los objetivos de pulverización catódica se pueden utilizar para fabricar materiales conductores y películas dieléctricas, películas superconductoras y películas de ITO en dispositivos semiconductores y circuitos integrados.
5.Recubrimiento de células solares
Actualmente, las células solares se han desarrollado desde hace muchas generaciones. La primera son las células solares de silicio monocristalino, la segunda generación son las células solares de silicio amorfo y silicio policristalino, y la tercera generación son las células solares de película delgada. El proceso de recubrimiento por pulverización consiste en preparar una película de telururo de cadmio (CdTe), una película de seleniuro de cobre, indio y galio (CIGS) y arsénico. El método más común para películas delgadas de cloruro de galio (GaAs). El objetivo de pulverización catódica CIGS es un objetivo de pulverización catódica representado por aplicaciones de energía solar. Está compuesto por cuatro elementos metálicos: cobre (Cu), indio (In), galio (Ga) y selenio (Se). La película CIGS pulverizada sobre la célula solar tiene las ventajas de una fuerte absorción de luz, buena estabilidad de generación de energía y alta eficiencia de conversión. Puede hacer que la célula solar genere electricidad durante mucho tiempo durante el día y genere grandes cantidades de electricidad. Durante el proceso de recubrimiento, la pureza y calidad del objetivo de pulverización catódica CIGS afectarán directamente la calidad de la película producida.
