Blanco de pulverización

Objetivo de pulverización de aluminio y titanio

Descripción del objetivo de pulverización de aluminio y titanio El objetivo de pulverización se refiere a la materia prima utilizada en el proceso de deposición por pulverización catódica, que se

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Objetivo de iridio

Material:ir. Pureza:Mayor o igual a 99,99%(4N). Densidad:22,56 g/cm³. Diámetro:Φ Mayor o igual a 20 mm. Espesor:1-15 mm o personalizado. Ancho:10-150 mm. Longitud:10-300 mm. Punto de

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Objetivo de pulverización de silicio y aluminio

El objetivo de pulverización catódica de silicio y aluminio es un objetivo de pulverización catódica de aleación compuesto de aluminio y silicio, que se utiliza principalmente en procesos de

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Objetivo de boro b

El objetivo de Boron B es un material objetivo metálico de alta pureza utilizado en los procesos PVD o CVD . está hecho de Boron como el componente principal y se hace en un bloque denso a través de

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Objetivo de metal de platino

El objetivo metálico de platino es un material funcional hecho de platino de alta pureza (PT) como materia prima, con un alto punto de fusión, fuerte resistencia a la corrosión, excelente

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Objetivo de tungsteno de cromo cobalto

El objetivo de tungsteno de cromo cobalto es un tipo de objetivo de metal utilizado para el recubrimiento de pulverización. Está hecho de cobalto, cromo, tungsteno y otros elementos metálicos con

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99.99% Pureza Níquel Ni Obstornos de pulverización

99.99% Los objetivos de pulverización de níquel Ni de pureza son objetivos de pulverización hechos de materiales de níquel de alta pureza con buena conductividad eléctrica, conductividad térmica,

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Objetivos de pulverización de óxido de aluminio de itrio

Los objetivos de pulverización de óxido de aluminio de itrio son un tipo de objetivo cerámico hecho de óxido de óxido de itrio y óxido de aluminio a través de un proceso específico. A menudo se usan

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Objetivos de pulverización de silicio de aluminio (Al/Si)

Los objetivos de pulverización de silicio de aluminio (Al/Si) son objetivos de aleación hechos de aluminio y silicio. Pueden soportar altas temperaturas y bombardeo iónico durante la pulverización

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Objetivo redondo de silicio de aluminio

El objetivo redondo de silicio de aluminio es un objetivo de aleación hecho de material de silicio de aluminio de alta pureza a través de la tecnología de procesamiento de precisión. Desempeña un

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Objetivo de circonio zr702

Zr702 Zirconium Target is a high-purity round target made of zirconium, which has high strength, good chemical stability, strong electrical conductivity and thermal conductivity, etc. It can be used

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99.95% de objetivos NB2O5 puros

El 99.95% de los objetivos NB2O5 puros son fuentes de pulverización que forman varias películas funcionales en sustratos a través de la pulverización de magnetrón, el revestimiento de iones múltiples

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