Objetivos de titanio puro al 99,99 %

Objetivos de titanio puro al 99,99 % Descripción

La pureza es uno de los principales indicadores de rendimiento para la selección de materiales objetivo, lo que tiene una gran influencia en el rendimiento de la película pulverizada y también puede evitar problemas como descargas anormales o defectos de partículas durante el proceso de pulverización catódica.Objetivos de titanio puro al 99,99 %no solo tiene las ventajas de alta pureza, buena resistencia al desgaste, larga vida útil y alta calidad de recubrimiento, sino que también incluye todas las excelentes características del titanio, como alta resistencia específica, buena biocompatibilidad, buena resistencia a la corrosión y protección ambiental Buen rendimiento, Peso ligero y resistencia a altas temperaturas.Objetivos de titanio puro al 99,99 %generalmente tienen dos tipos de objetivos redondos y objetivos de placa, que son muy adecuados para aplicaciones en la industria de semiconductores, industria de pantallas planas, almacenamiento de información y células solares y otros campos. La delgada película hecha deObjetivos de titanio puro al 99,99 %es uno de los materiales de película de barrera comúnmente utilizados en chips VLSI, que pueden lograr una interconexión confiable y de alta densidad entre chips y chips y sustratos.

Objetivos de titanio puro al 99,99 % Especificaciones:

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