Objetivo de pulverización de titanio
Objetivo de pulverización de titanio
FANMETAL suministra Pure 99.999% Titanium Sputtering Target. Pureza del 99,5% al 99,9999%. En la actualidad, para el VLSI de 4 megabits, se requiere que la pureza del titanio alcance 4N5 (99.995%) ~ 5N (99.999%), mientras que el VLSI de tercera generación de 16 megabits requiere que la pureza del titanio alcance el nivel de 6N (99.9999%).
También proporcionamos el objetivo de metal y material de evaporación a alta pureza 99.9999%, objetivo de metal precioso (Au, Ag, Pt), servicio de unión de objetivos, revestimientos de crisol (cobre, molibdeno, tungsteno, etc.)
Imagen del objetivo de pulverización de titanio:


Las principales aplicaciones de Titanium Sputtering Target incluyen:
1. Materiales biológicos
El titanio es un metal no magnético y no será magnetizado en un campo magnético fuerte. Tiene buena compatibilidad con el cuerpo humano y no tiene efectos secundarios tóxicos. Se puede utilizar para fabricar dispositivos de implantes humanos. En general, los materiales médicos de titanio no alcanzan el nivel de titanio de alta pureza, pero teniendo en cuenta la disolución de impurezas en el titanio, la pureza del titanio para implantes debe ser lo más alta posible. La literatura también menciona que el alambre de titanio de alta pureza se puede utilizar como material de flejado biológico. Además, la aguja de inyección de titanio con el catéter incorporado también ha alcanzado el nivel de titanio de alta pureza.
2. Materiales de decoración
El titanio de alta pureza tiene una excelente resistencia a la corrosión atmosférica y no cambiará de color después de un uso a largo plazo en la atmósfera, lo que garantiza el color original del titanio. Por lo tanto, el titanio de alta pureza también se puede utilizar como materiales de decoración de edificios. Además, en los últimos años, algunas decoraciones de alta gama y algunos artículos de uso, como pulseras, relojes y monturas de gafas, están hechos de titanio, que utiliza las características de resistencia a la corrosión, decoloración, mantenimiento a largo plazo de un buen brillo y no sensibilización en contacto con la piel humana. La pureza del titanio utilizado en algunas decoraciones ha alcanzado el nivel 5N.
3. Material aspirado
El titanio, como metal muy activo con propiedades químicas, puede reaccionar con muchos elementos y compuestos a altas temperaturas. El titanio de alta pureza tiene una fuerte adsorción de gases activos (como O2, N2, CO, CO2 y vapor de agua por encima de 650 ° C). La película de Ti evaporada en la pared de la bomba puede formar una superficie con alta capacidad de adsorción. Esta propiedad hace que Ti sea ampliamente utilizado como captador en sistemas de bombeo de ultra alto vacío. Si se utiliza en bombas de sublimación, bombas de iones de pulverización, etc., la presión de trabajo final de la bomba de iones de pulverización puede ser tan baja como 10-9Pa.
4. Materiales de información electrónica
En los últimos años, con el rápido desarrollo de campos de alta tecnología como la tecnología de semiconductores y la tecnología de la información, la cantidad de titanio de alta pureza utilizado en objetivos de pulverización (ver Figura 1), circuitos integrados, DRAM y pantallas planas ha aumentado. Los requisitos de pureza de los materiales son cada vez más altos. En la industria de semiconductores VLSI, los compuestos de silicio de titanio, los compuestos de nitrógeno de titanio, los compuestos de titanio de tungsteno, etc. se utilizan como barreras de difusión y materiales de cableado para los electrodos de control. El método de pulverización se utiliza para fabricar estos materiales, y el objetivo de titanio utilizado en el método de pulverización requiere una alta pureza, especialmente para elementos metálicos alcalinos y elementos radiactivos.
En los últimos años, su equipo de pulverización a juego también ha comenzado a utilizar titanio de alta pureza con la misma pureza que el objetivo de titanio pulverizado.
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