Objetivo de pulverización de aluminio de titanio
FANMETAL suministra el objetivo de pulverización de aluminio de titanio de aleación Ti-Al utilizado en el sistema de recubrimiento PVD. También proporcionamos otros metales objetivo y material de evaporación a alta pureza 99.9999%, objetivo de metales preciosos (Au, Ag, Pt), servicio de unión de objetivos, revestimientos de crisol (cobre, molibdeno, tungsteno, etc.)
Los requisitos de calidad de los materiales Titanium Aluminum Sputtering Target son más altos que los de la industria de materiales tradicional. Requisitos generales como tamaño, planitud, pureza, contenido de impurezas, densidad, N/O/C/S, tamaño de grano y control de defectos; Los requisitos más altos o requisitos especiales incluyen: rugosidad de la superficie, valor de resistencia, uniformidad del tamaño del grano, uniformidad de la composición y la estructura, contenido y tamaño de materia extraña (óxido), permeabilidad, densidad ultra alta y granos ultrafinos, etc.
Imagen del objetivo de pulverización de aluminio de titanio:
Objetivo de pulverización de aluminio de titanio Descripción
Pureza | Al-Ti (35/65at%), Al/Ti (50:50 at%),AlTi 97/3wt%, AlTi 95/5wt%, AlTi 90/10wt% |
Forma | Discos, placa, paso (diámetro ≤300 mm, espesor ≥1 mm) (Largo ≤1000mm, Ancho ≤300mm, Grosor ≥1mm) |
Certificación | ISO 9001:2008 |
Especificación | Personalizado a petición |
Proceso | Forjado, Laminado, Rectificado |
Aplicación | 1. Galvanoplastia; 2. Ingeniería química y tecnología petroquímica; 3. Médico |
Densidad | 4,51 g/cm3 |
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