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Objetivo de pulverización de titanio y silicio
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Objetivo de pulverización de titanio y silicio

Objetivo de pulverización de titanio y silicio

FANMETAL suministra el objetivo de pulverización de titanio y silicio de aleación Ti-Si utilizado en el sistema de recubrimiento PVD. Composición de la aleación TiSi: 85:15 por ciento 80:20 por ciento 75:25 por ciento. También proporcionamos el objetivo de metal y el material de evaporación de alta pureza 99.9999 por ciento, objetivo de metal precioso (Au, Ag, Pt), servicio de unión de objetivo, revestimientos de crisol (cobre, molibdeno, tungsteno, etc.)
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Product Details ofObjetivo de pulverización de titanio y silicio

Objetivo de pulverización de titanio y silicio

FANMETAL suministra el objetivo de pulverización de titanio y silicio de aleación Ti-Si utilizado en el sistema de recubrimiento PVD. Composición de la aleación TiSi: 85:15 por ciento 80:20 por ciento 75:25 por ciento. También proporcionamos el objetivo de metal y el material de evaporación de alta pureza 99.9999 por ciento, objetivo de metal precioso (Au, Ag, Pt), servicio de unión de objetivo, revestimientos de crisol (cobre, molibdeno, tungsteno, etc.)


El recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón es un nuevo tipo de método de recubrimiento con vapor físico. Utiliza un sistema de cañón de electrones para emitir y enfocar electrones en el material que se va a metalizar, de modo que los átomos pulverizados sigan el principio de conversión de momento y dejen el material con mayor energía cinética. Volar al sustrato para depositar una película. Este material que se va a metalizar se denomina objetivo de pulverización catódica. Los objetivos de pulverización catódica incluyen metales, aleaciones y compuestos cerámicos.

Imagen del objetivo de pulverización catódica de titanio y silicio:

Tipos

comp. quimica

Pureza

formas

Procesando

Aleaciones a base de aluminio

Al-mg

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Al-Si

4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Al-Si-Mg

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Al-Si-Cu

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Zn-Al

4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Aleaciones a base de cobalto

Co-Cr

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

co-fe

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Co-Ni

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Co-Ni-Cr

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Aleaciones a base de níquel

Ni-Cr

3N5

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

ni-co

4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Ni-Cu

4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Ni-Cr-Al

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Ni-Cr-Al-Si

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Ni-Cr-Si

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

ni-fe

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Ni-V

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Aleaciones a base de titanio

Ti-Al

4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Prensado isostático en caliente

Ti-Cr

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

ti-si

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Ti-Zr

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

W-Ti

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Otras aleaciones

Cr-Si

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Sinterización Especial

Cr-V

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Fe-Mn

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Fe-Co-B

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Sinterización Especial

En-Sn

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío

Zr-Fe

3N,4N

Lingote, Partícula, Objetivo

Fusión al vacío



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