Objetivo de circonio
Descripción general
El objetivo de circonio se usa ampliamente en los campos de revestimiento de pulverización, fabricación de semiconductores, recubrimiento óptico, nueva energía, etc., con su excelente estabilidad física y química, resistencia a la corrosión, control de alta pureza y adaptabilidad a las necesidades de múltiples campos. En el futuro, con el avance de la tecnología, se continuará demostrando su potencial de aplicación en campos emergentes, como nano-cohings y dispositivos cuánticos.
ZR Características del objetivo de pulverización
Buen rendimiento de alta temperatura
El punto de fusión del circonio es tan alto como 1852 grados. Puede mantener una estructura física estable en un entorno de alta temperatura y no es fácil de fundir o deformarse.
Estabilidad química fuerte
El circonio puede resistir la corrosión de una variedad de ácidos fuertes, álcalis fuerte y agua de mar a temperatura ambiente, y una densa película de pasivación de zro₂ se forma fácilmente en la superficie para evitar una mayor corrosión.
Excelentes propiedades eléctricas y ópticas
El circonio puede realizar electricidad y evitar que los iones metálicos se difundan. El óxido de circonio tiene un alto índice de refracción y se puede usar para preparar recubrimientos ópticos.
Fuerte rendimiento de pulverización
La pureza generalmente puede alcanzar más del 99.5%, y puede depositar películas delgadas altamente uniformes. Se puede convertir en objetivos de varias formas a través de la forja, el rodaje y otros procesos, y es adecuado para diferentes equipos de pulverización.
Dimensión objetivo de circonio
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Calificación |
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Técnica |
Prensado isostático caliente, refinamiento de grano, sinterización, falsificación, recocido |
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Pureza |
99.95% |
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Espesor |
3 mm -40 mm |
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Diámetro |
50-300 mm |
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Punto de fusión |
1857 Grado |
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Densidad |
6.94g\/cm3 |
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Forma |
Disco redondo |
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Superficie |
Pulido, molienda |
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Proceso de dar un título |
ISO9001 |
Solicitud
El objetivo de la pulverización de metal de circonio se usa ampliamente en microelectrónica, la industria de fabricación de semiconductores (preparación de electrodos de puerta y capas de interconexión de metales), la industria aeroespacial (componentes de alta temperatura y materiales estructurales), la industria óptica y optoelectrónica (películas de alta calidad) y el objetivo de sputter sputter de metal Zirconio. El campo de energía nuclear (materiales de revestimiento de combustible y materiales de varillas de control para reactores nucleares), el campo de la medicina (partes objetivo de los tubos de rayos X), herramientas de fabricación mecánica (recubrimientos resistentes al desgaste) suministros decorativos (recubrimientos estéticos decorativos) y otras industrias.
Proceso
Nuestra compañía produce objetivos de circonio de alta pureza a través de prensado en polvo, fusión de horno de alta temperatura, fundición de moho, rodamiento repetido, tratamiento de pulido superficial, control de calidad estricto y otros procesos. La pureza y la uniformidad del objetivo están en línea con los requisitos de las aplicaciones de alta tecnología.
1. Metalurgia en polvo (proceso común)
Polvo: el circonio de la esponja se realiza en polvo de circonio por trituración mecánica, deshidrogenación de hidrogenación (HDH) y otros métodos.
Presionamiento: el blanco del blanco se obtiene mediante una prensado isostático en frío o moldura de compresión en un molde.
Sinterización: sinterización de alta temperatura en una atmósfera de vacío o inerte para mejorar la densidad.
2. Método de fusión y fundición (aplicable a objetivos de gran tamaño)
Melción del arco al vacío: los bloques de circonio de esponja o circonio se derriten en un horno de arco de vacío para eliminar las impurezas de gas y se colocan en lingotes.
Forjing y rodamiento: los lingotes están en caliente y se enrolan en frío para mejorar la orientación del grano y procesarlos en la forma deseada.
3. Mecanizado y tratamiento de superficie
Corte en tamaños especificados, y la superficie está molida y pulida para reducir la rugosidad y evitar los defectos de la superficie que afectan la uniformidad de pulverización.
4. Inspección y embalaje de calidad integral
Las películas pulverizadas por el objetivo de Sputter Zirconio Z702 se pueden dividir en las siguientes categorías:
1. Nitruro de circonio (ZRN)
Color: amarillo dorado
Mecanismo de formación: el objetivo de circonio está pulverizado en un entorno de nitrógeno para generar un recubrimiento de nitruro de circonio (ZRN). El color dorado de ZRN proviene principalmente de las características de reflexión de la luz de su estructura cristalina.
Aplicación: El recubrimiento ZRN tiene las características de alta dureza, buena resistencia al desgaste y resistencia a la corrosión, y a menudo se usa en recubrimientos decorativos, herramientas de corte y moldes.
2. Carbonium carbonitruro (ZRCN)
Color: negro profundo
Mecanismo de formación: apuntos de circonio de pulverización en una atmósfera mixta de nitrógeno y metano para generar un recubrimiento de carbonitruro de circonio (ZRCN). Aumentar el contenido de carbono hace que el color de recubrimiento cambie a negro profundo al tiempo que mejora su dureza y resistencia al desgaste.
Aplicación: El recubrimiento ZRCN se utiliza para herramientas de corte de alto rendimiento y piezas mecánicas resistentes al desgaste, proporcionando un excelente desgaste y resistencia a la corrosión.
3. Óxido de circonio (Zro₂)
Color: transparente o blanco
Mecanismo de formación: el recubrimiento de PVD se lleva a cabo en un entorno de oxígeno para formar un recubrimiento de óxido de circonio (ZRO₂). ZRO₂ tiene una excelente estabilidad térmica y propiedades de aislamiento eléctrico.
Aplicación: El recubrimiento ZRO₂ se usa ampliamente en entornos de alta temperatura, dispositivos electrónicos y cerámica médica.
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Circonio 702 Targeto de pulverización redondo, objetivo de circonio a los Países Bajos
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Calificación

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