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Disco de tungsteno de lavado alcalino
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Disco de tungsteno de lavado alcalino

Disco de tungsteno de lavado alcalino

El disco de tungsteno de lavado alcalino es un material metálico hecho de material de tungsteno de alta pureza mediante un proceso de pulvimetalurgia. A menudo se utiliza como material objetivo para tubos de rayos X, material de chip semiconductor y material de contrapeso pequeño, y puede usarse ampliamente en diagnóstico y tratamiento médicos, pruebas industriales no destructivas, industria de recubrimiento al vacío, industria del vidrio, industria de energía solar. e ingeniería electrónica.
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Product Details ofDisco de tungsteno de lavado alcalino

Disco de tungsteno de lavado alcalinoEs un material metálico fabricado a partir de material de tungsteno de alta pureza mediante un proceso de pulvimetalurgia. A menudo se utiliza como material objetivo para tubos de rayos X, material de chip semiconductor y material de contrapeso pequeño, y puede usarse ampliamente en diagnóstico y tratamiento médicos, pruebas industriales no destructivas, industria de recubrimiento al vacío, industria del vidrio, industria de energía solar. e ingeniería electrónica.

Características del disco de tungsteno de lavado alcalino

1. Alto punto de fusión: el tungsteno tiene un punto de fusión increíblemente alto de 3422 grados, lo que lo convierte en una excelente opción para su uso en entornos de alta temperatura.

2. Alta dureza: El tungsteno es un metal muy duro, lo que lo hace ideal para aplicaciones que requieren resistencia y durabilidad.

3. Resistencia a la corrosión a altas temperaturas, buena resistencia a la corrosión química, buena resistencia al desgaste. Puede funcionar de forma estable en entornos hostiles durante mucho tiempo

4. Subcoeficiente de alta densidad y gran altitud: puede producir una mayor producción de energía y mejorar la calidad de la imagen.

Aplicación de disco de tungsteno de lavado alcalino

1. Ampliamente utilizado en la industria electrónica, como capas aislantes en circuitos microelectrónicos, chips semiconductores, pantallas planas y células solares.

2. Se utiliza como componentes de disipación y conducción de calor, componentes de protección y componentes resistentes a la corrosión.

3. Utilizado como objetivos de pulverización catódica en la industria de semiconductores, industria de recubrimiento por evaporación y aplicaciones ópticas.

4. También se utiliza en implantación de iones, que es un proceso de introducción de iones dopantes en un material para cambiar sus propiedades.

Especificaciones del disco de tungsteno de lavado alcalino:

Calificación

90WNiFe, 93WNiFe, 95WNiFe

Pureza

Mayor o igual al 95%

Diámetro

2.5-5mm

Espesor

1mm

Punto de fusión

3410 grados

Densidad

19,2 g/cm33

Superficie

limpieza alcalina

El tiempo de entrega

20 dias

Estándar

ASTM B760, GB

Proceso de dar un título

ISO9001

Imágenes de disco de tungsteno de lavado alcalino

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