Pieza de implantación de iones de tungsteno
Descripción de la pieza de implantación de iones de tungsteno
La implantación de iones es una nueva tecnología de modificación de la superficie del material, que puede optimizar las propiedades de la superficie de los materiales u obtener nuevas propiedades excelentes, y desempeña un papel importante en la fabricación de semiconductores y circuitos integrados. Debido a que el material de tungsteno tiene las ventajas de alta densidad, alto punto de fusión, propiedades químicas estables a altas temperaturas, pequeña desnaturalización térmica, buena conductividad térmica y larga vida útil, se ha convertido en la primera opción para fuentes de iones y consumibles para implantadores de iones en la industria de semiconductores. . La pieza de implantación de iones de tungsteno generalmente se fabrica mediante tecnología de pulvimetalurgia y generalmente incluye un cilindro de protección del cátodo de emisión, un panel de emisión, una varilla fija central y una placa de filamento en la cámara de inicio del arco. La pieza de implantación de iones de tungsteno puede usarse ampliamente en la industria aeroespacial, experimentos científicos, procesamiento de metales, hornos de alta temperatura, industria de refinación de zafiro y industria cerámica.
Especificaciones de la pieza de implantación de iones de tungsteno:
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Calificación |
W1,W2 |
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Técnica |
Laminación, Forja, Aplanamiento, Recocido, Mecanizado |
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Punto de fusion |
3410 grados |
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Pureza |
Mayor o igual a 99,95 por ciento |
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Tamaño y forma |
Según dibujos |
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Diámetro exterior máximo |
800 mm |
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Densidad |
19,3 g/cm33 |
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Superficie |
Pulido, limpieza química, recubrimiento en polvo, etc. |
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Estándar |
ASTM B777, estruendo, GB, ISO, JIS |
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Certificación |
ISO 9001 |
Imágenes de las piezas de implantación de iones de tungsteno:


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