Objetivo de pulverización de aleación de titanio y silicio

Descripción del objetivo de pulverización catódica de aleación de titanio y silicio

El objetivo de pulverización catódica es una parte importante del funcionamiento de la tecnología de pulverización catódica de magnetrón, que se puede dividir en tres tipos: metal, aleación y cerámica. Entre ellos, cuanto mayor sea la pureza del material, mayor será la calidad de la película de recubrimiento pulverizada, mejor será la resistencia al desgaste y mayor será el efecto de protección en la herramienta. El objetivo de pulverización de aleación de titanio y silicio está hecho de polvo mixto de titanio y silicio de alta calidad a través de tecnología de metalurgia de polvo después de una serie de procesamientos como prensado, sinterizado, laminado, recocido, esmerilado y pulido, con alta pureza, estructura estable y buena calidad de recubrimiento Alto y fuerte adherencia, fuerte resistencia a la corrosión, buena resistencia al desgaste, excelente resistencia al impacto y gran durabilidad y otras excelentes características. Los objetivos de pulverización de aleación de titanio y silicio son muy adecuados para trabajar en entornos hostiles, a menudo utilizados en sistemas de recubrimiento PVD o CVD, muy adecuados para la industria de recubrimientos decorativos, recubrimiento de dispositivos semiconductores, recubrimiento de herramientas de hardware, recubrimiento de vidrio automotriz, recubrimiento al vacío, industria médica, LED y dispositivos fotovoltaicos y otros campos.

Especificaciones del objetivo de pulverización catódica de aleación de titanio y silicio:

Imágenes de destino de pulverización catódica de aleación de titanio y silicio:

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