Objetivos PVD de aleación de aluminio y titanio

Descripción de objetivos PVD de aleación de aluminio y titanio

El objetivo del recubrimiento es una fuente de pulverización catódica que forma varias películas funcionales sobre el sustrato mediante pulverización catódica en condiciones de proceso apropiadas mediante pulverización catódica con magnetrón, revestimiento iónico de múltiples arcos u otros tipos de sistemas de recubrimiento. En pocas palabras, el material objetivo es el material objetivo bombardeado por partículas cargadas de alta velocidad. Los objetivos PVD de aleación de aluminio y titanio tienen mejor resistencia mecánica, mejor resistencia a la corrosión, mejor biocompatibilidad, mayor resistencia a la fatiga, alto rendimiento de recubrimiento, larga vida útil y resistencia al impacto que otros objetivos metálicos. Mejor esperar. Los objetivos PVD de aleación de aluminio y titanio a menudo se fabrican mediante el método de fundición y el método de sinterización en polvo, y pueden usarse ampliamente en muchos campos de recubrimiento al vacío, como decoración, procesamiento de moldes, vidrio, dispositivos electrónicos, semiconductores, grabación magnética, pantallas planas, células solares. etc. Nuestra empresa puede proporcionar objetivos planos (objetivos rectangulares y objetivos en arco) y objetivos tubulares. Si es necesario, no dude en contactarnos por correo electrónico.

Especificaciones de objetivos PVD de aleación de aluminio y titanio:

Imagen de objetivos PVD de aleación de aluminio y titanio

Etiqueta: Objetivos de pvd de aleación de aluminio y titanio, proveedores, fabricantes, fábrica, personalizado, venta al por mayor, precio, cotización, en venta