Objetivo de pulverización de aleación de titanio TiAl

Descripción del objetivo de pulverización catódica de aleación de titanio TiAl

El objetivo de pulverización catódica se refiere a la materia prima utilizada en el proceso de deposición de pulverización catódica. Se refiere al proceso en el que los átomos son expulsados ​​del objetivo sólido debido al bombardeo de partículas de alta energía sobre el objetivo. Su función principal es depositar una fina película sobre el objeto. . El objetivo de pulverización catódica de aleación de titanio TiAl a menudo se fabrica mediante el método de fabricación por fundición al vacío. Tiene una serie de excelentes propiedades del titanio y el circonio, como alta dureza, resistencia a altas temperaturas, alta resistencia mecánica, buena biofilicidad, excelente resistencia a la corrosión, fuerte resistencia al impacto del arco y molienda, durabilidad, etc. El objetivo de pulverización catódica de aleación de titanio TiAl puede Ser ampliamente utilizado en la tecnología de recubrimiento al vacío utilizando PVD y CVD como procesos principales. Puede recubrir productos electrónicos, dispositivos electrónicos, dispositivos de visualización blindados y dispositivos de circuitos integrados para mejorar la calidad de visualización y la vida útil. También se puede utilizar para recubrir herramientas de procesamiento, moldes y vidrio para satisfacer las necesidades de la industria manufacturera mundial de herramientas de alto rendimiento y vidrio que ahorre energía y sea respetuoso con el medio ambiente.

Especificaciones del objetivo de pulverización catódica de aleación de titanio TiAl:

Imagen del objetivo de pulverización catódica de aleación de titanio TiAl

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