Objetivo de pulverización catódica de oro

FANMETAL suministra el objetivo de pulverización catódica de metal precioso utilizado en el sistema de recubrimiento PVD. Como el objetivo de pulverización catódica de oro Au, el objetivo de pulverización catódica de plata Ag, el objetivo de pulverización catódica de platino Pt, el objetivo de pulverización catódica de iridio Ir, el objetivo de pulverización catódica de rutenio Ru.

Envíeconsulta

Sputtering de oro Blanco de metales preciosos y sus aleaciones para cableado y películas delgadas de dispositivos semiconductores, dispositivos de visualización de medios de grabación, etc., fabricados por refinación, forja por fusión, procesamiento de laminación o pulvimetalurgia. Los objetivos de Au, Pt, Pd, Ag se utilizan para circuitos integrados y circuitos integrados a gran-escala, y los objetivos de aleación como CoCrPt, CoPt y CoPd se utilizan para la grabación magnética.

Los objetivos de pulverización catódica de alta-pureza y alta-densidad incluyen:

Sputtering target (pureza: 99,9 por ciento -99,999 por ciento)

Objetivo de metal noble:

Blanco de pulverización de metal noble de platino, astilla y oro

Imagen del objetivo de pulverización catódica de oro:

Gold Sputtering Target