Objetivo de pulverización rotatoria de cromo
Descripción del objetivo de pulverización rotatoria de cromo
El cromo tiene buena resistencia a la oxidación y a la corrosión, y puede formar una película de óxido estable en el entorno natural para proteger el metal de una mayor corrosión. El objetivo de pulverización rotatoria de cromo se puede fabricar mediante tecnología de fusión electrónica, con alta pureza, buena estabilidad dimensional, fuerte rendimiento de procesamiento, alta resistencia y dureza, resistencia a altas temperaturas, fuerte resistencia a la corrosión, alta calidad de recubrimiento, larga vida útil y una serie de excelentes características. . Pulverización rotatoria de cromo Pulverización objetivo de recubrimientos, reflectores y capas decorativas resistentes a la corrosión de alta calidad para una amplia gama de aplicaciones en la industria electrónica de alta gama, microelectrónica, industria de recubrimientos ópticos, tecnología PVD, industria solar y de iluminación, industria aeroespacial e industria de recubrimiento al vacío. . El recubrimiento de alto rendimiento puede mejorar la fricción y la resistencia al desgaste de la superficie de la pieza de trabajo y mejorar aún más la eficiencia y la calidad del procesamiento.
Especificaciones del objetivo de pulverización rotatoria de cromo:
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Calificación |
CR009300,CR009302,CR009500,CR009600,etc. |
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Técnica |
Fusión al vacío, HIP, pulverización por plasma, mecanizado, unión |
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Pureza |
99.95%,99.99%,99.999% |
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Diámetro externo |
50-300mm |
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Diámetro interno |
30-280mm |
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Espesor |
1mm-100mm |
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Longitud (placa) |
100 mm-4000mm |
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Densidad |
7,19 g/cm3 |
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Superficie |
Pulido, limpieza alcalina, esmerilado, óxido negro, etc. |
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Certificación |
ISO 9001 |
Imágenes del objetivo de pulverización rotatoria de cromo:


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