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Objetivo de pulverización rotatoria de cromo
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Objetivo de pulverización rotatoria de cromo

Objetivo de pulverización rotatoria de cromo

Objetivo de pulverización rotatoria de cromo Descripción El cromo tiene buena resistencia a la oxidación y a la corrosión, y puede formar una película de óxido estable en el entorno natural para proteger el metal de una mayor corrosión. El objetivo de pulverización rotatoria de cromo se puede fabricar mediante tecnología de fusión electrónica, con...
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Product Details ofObjetivo de pulverización rotatoria de cromo

Descripción del objetivo de pulverización rotatoria de cromo

El cromo tiene buena resistencia a la oxidación y a la corrosión, y puede formar una película de óxido estable en el entorno natural para proteger el metal de una mayor corrosión. El objetivo de pulverización rotatoria de cromo se puede fabricar mediante tecnología de fusión electrónica, con alta pureza, buena estabilidad dimensional, fuerte rendimiento de procesamiento, alta resistencia y dureza, resistencia a altas temperaturas, fuerte resistencia a la corrosión, alta calidad de recubrimiento, larga vida útil y una serie de excelentes características. . Pulverización rotatoria de cromo Pulverización objetivo de recubrimientos, reflectores y capas decorativas resistentes a la corrosión de alta calidad para una amplia gama de aplicaciones en la industria electrónica de alta gama, microelectrónica, industria de recubrimientos ópticos, tecnología PVD, industria solar y de iluminación, industria aeroespacial e industria de recubrimiento al vacío. . El recubrimiento de alto rendimiento puede mejorar la fricción y la resistencia al desgaste de la superficie de la pieza de trabajo y mejorar aún más la eficiencia y la calidad del procesamiento.

Especificaciones del objetivo de pulverización rotatoria de cromo:

Calificación

CR009300,CR009302,CR009500,CR009600,etc.

Técnica

Fusión al vacío, HIP, pulverización por plasma, mecanizado, unión

Pureza

99.95%,99.99%,99.999%

Diámetro externo

50-300mm

Diámetro interno

30-280mm

Espesor

1mm-100mm

Longitud (placa)

100 mm-4000mm

Densidad

7,19 g/cm3

Superficie

Pulido, limpieza alcalina, esmerilado, óxido negro, etc.

Certificación

ISO 9001

Imágenes del objetivo de pulverización rotatoria de cromo:

Chromium Sputter Targets

Chromium Sputtering Target

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