Objetivos de titanio de alta pureza
Descripción de los objetivos de titanio de alta pureza
El titanio es un metal refractario paramagnético con gran tenacidad y alta resistencia, especialmente en un ambiente libre de oxígeno. Para los objetivos, cuanto mayor sea la pureza química del metal, mejor será la conductividad de la película fabricada con él. Los objetivos de titanio de alta pureza a menudo se fabrican utilizando tecnología de pulvimetalurgia. Tiene excelentes propiedades como alta pureza, alta resistencia y dureza, alta resistencia específica, resistencia a la corrosión, resistencia al impacto, buena estabilidad a altas temperaturas, resistencia al desgaste, durabilidad y alta calidad de recubrimiento. Los objetivos de titanio de alta pureza se utilizan para la evaporación y deposición de metales en diversos procesos físicos de deposición de vapor y pulverización catódica. Puede usarse bien en recubrimientos ópticos, recubrimientos al vacío, dispositivos optoelectrónicos, herramientas de procesamiento de alta temperatura, catalizadores químicos y equipos médicos. Por ejemplo, en la industria de los semiconductores, Titanium Target se puede utilizar para fabricar componentes electrónicos como fotodiodos, transistores, receptores o transmisores.
Especificación de objetivos de titanio de alta pureza:
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Material |
Gr1-4 |
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Técnica |
Sinterización, forja, recocido, laminación, fusión al vacío, mecanizado |
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Pureza |
99.9%-99.995% |
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Diámetro |
10-1000mm |
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Espesor |
1-100mm |
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Densidad |
4,5 g/cm33 |
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Superficie |
Pulido |
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Forma |
Disco, placa, rectangular, cuadrado, objetivos de columna, |
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Estándar |
ASTM B348,GB,JIS |
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Certificación |
ISO9001,ISO14001 |
Imagen de objetivos de titanio de alta pureza:


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