Descripción general

Iridium Target es una fuente de pulverización catódica hecha de metal de iridio de alta-pureza, cuyo núcleo se utiliza paradeposición física de vapor (PVD)para preparar películas de metales preciosos altamente estables,-resistentes a la corrosión-y a altas temperaturas para aplicaciones en semiconductores, aeroespacial, procesamiento catalítico, instrumentos ópticos y otros campos. FANMETAL tiene más de 20 años de experiencia en la producción y exportación deobjetivos de metales nobles. Si desea conocer el precio detallado, póngase en contacto con nosotros por correo electrónico ahora.

Características del iridio

Pureza ultra-alta

La pureza puede alcanzar el 99,99%-99,999% (grado 4N-5N) y la cantidad total de impurezas se controla por debajo de 10 ppm para garantizar la estabilidad de la transmisión de corriente y la uniformidad de la película, y evitar defectos en la capa de la película causados por impurezas.

Estabilidad a altas temperaturas

Tiene un bajo coeficiente de expansión térmica, mantiene la integridad estructural en ambientes de temperaturas extremas, mantiene una baja resistencia térmica a altas temperaturas, evitando eficazmente la acumulación y pérdida de calor.

resistencia a la corrosión

El iridio resiste casi todos los ácidos, el agua regia, los metales fundidos y los silicatos. Se forma una densa película de óxido en la superficie, que aísla eficazmente el medio corrosivo externo y protege el sustrato de la erosión. (Fuente)

Propiedades mecánicas

Alta densidad, alta resistencia a la tracción, dureza Vickers mayor o igual a 1670HV, aún manteniendo una alta dureza a una temperatura alta de 2000 grados. Y se puede utilizar durante mucho tiempo sin contaminar el medio ambiente.

Imágenes de objetivo de iridio

Aplicación del objetivo de pulverización catódica de iridio

1. Fabricación de semiconductores y chips.

El objetivo de pulverización catódica de iridio se utiliza para crear capas de barrera ultra-delgadas que limitan el movimiento de iones de cobre hacia sustratos de silicio durante la fabricación de semiconductores y chips; permitirá una mayor confiabilidad en las interconexiones de chips; y puede pulverizarse con un espesor de 0,5-3 nm para satisfacer las necesidades de circuitos integrados de alta densidad con estructuras finas, mejorando así el rendimiento de los dispositivos.

2. Componentes electrónicos y tecnología de visualización.

Algunas de las aplicaciones son la fabricación de pantallas OLED flexibles para crear capas de electrodos, la fabricación de materiales de contacto de interruptores y microrrelés, la producción de componentes sensibles para sensores de presión y temperatura de alta-precisión y los materiales de electrodos primarios utilizados en dispositivos RF 5G. Los objetivos de iridio pueden mejorar significativamente la eficacia de la transmisión de señales al mejorar la eficiencia de la señal y la precisión de las mediciones.

3. Instrumentos ópticos

Debido a sus propiedades reflectantes, el iridio es un excelente candidato para revestimientos de reflexión/reflexión del infrarrojo medio- y lejano-en detectores de infrarrojos, ópticas (lentes) infrarrojas y productos de imágenes térmicas. Además, debido a su superficie muy lisa, los recubrimientos de iridio pueden proporcionar protección superficial adicional para sistemas ópticos de alta-exposición a condiciones ambientales adversas para mejorar la vida útil de las lentes.

4. Aeroespacial

Los dispositivos de detección remota e imágenes infrarrojas de satélites y sondas espaciales dependen de membranas de iridio para lograr una alta reflexión infrarroja y estabilidad del entorno espacial. El iridio tiene un alto punto de fusión y una excelente resistencia a la oxidación a altas temperaturas, y puede usarse como película protectora o funcional para componentes de alta-temperatura y dispositivos relacionados con el motor-.

5. Energía y catálisis

El iridio sirve como catalizador en conjuntos de electrodos de membrana (MEA) utilizados en pilas de combustible de hidrógeno. La actividad catalítica y la estabilidad química del iridio mejoran la eficiencia de la electrólisis para generar hidrógeno y reducir la energía total consumida. Cuando se utiliza como material anódico, el iridio proporciona una vida útil activa significativamente más larga en aplicaciones cloro-alcalinas en comparación con otros materiales.

Tratamiento

(1) Preparación de la materia prima: seleccione más del 99,99 % de polvo de iridio de alta-pureza para el cribado y la eliminación de impurezas para garantizar una pureza del polvo y un tamaño de partícula uniformes.
(2) Moldeo por prensado en frío: se carga polvo de iridio en un molde y se prensa en frío a alta presión para obtener una pieza en bruto verde porosa con cierta resistencia.
(3) Pre-sinterización: calentamiento a baja temperatura en vacío o atmósfera protectora para eliminar el gas del interior del cuerpo y consolidar preliminarmente.
(4) Prensado en caliente/prensado isostático en caliente: el cuerpo se densifica a alta temperatura y presión para obtener palanquillas de iridio de alta-densidad y baja-porosidad.
(5) Tratamiento de procesamiento térmico: mediante forjado, laminado o tratamiento térmico, refinando los granos, mejorando la uniformidad de la estructura y reduciendo las tensiones internas.
(6) Mecanizado de precisión: el corte, esmerilado y pulido de alambre se procesan en espacios en blanco que cumplen con los requisitos de tamaño, planitud y rugosidad.
(7) Soldadura de placa posterior(opcional): una el material objetivo a la placa posterior de cobre, molibdeno y otras placas posteriores para garantizar una buena conductividad eléctrica y térmica durante la pulverización catódica.
(8) Limpieza y prueba del embalaje: limpieza ultrasónica para eliminar aceite y polvo, después de pasar las pruebas de pureza, densidad, no-destructivas y otras pruebas, limpie el embalaje al vacío.

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Objetivo de farfulla de iridio, objetivo de iridio a Alemania

Recientemente, suministramos un lote de objetivos de iridio de alta-pureza a clientes alemanes para ayudarlos a mejorar sus industrias en el sector de los semiconductores. Tenemos capacidades de personalización de mayor calidad, plazos de entrega más rápidos y precios más competitivos que los proveedores anteriores de nuestros clientes en Japón y Estados Unidos. Después de recibir los productos, los clientes elogiaron nuestros productos y servicios y se espera que tengan una cooperación profunda-. En el futuro, FANMETAL continuará mejorando la tecnología de productos y las capacidades de personalización, optimizando procesos, reduciendo costos, enfocándose en el diseño de mercados de alto nivel-en Europa y Estados Unidos, construyendo una completa red internacional de ventas y servicios, y promoviendo la alta-calidad "globalizándose" de los objetivos nacionales.

Perfil de la empresa

FANMETAL

XINXIANG FANMETAL TECH CO LTD se dedica principalmente a la producción y venta de aleaciones de tungsteno, aleaciones de molibdeno, carburo cementado, objetivos de pulverización catódica, aleaciones de titanio, metales de circonio, iridio y estelita. Los principales empleados técnicos, de producción y de ventas de FANMETAL tienen entre 10 y 30 años de experiencia, con hábiles procesamiento mecánico, tratamiento de superficies, así como ventas de productos terminados y soluciones de servicio al cliente. Puede ayudar a los clientes a resolver diversos problemas encontrados durante la producción y se utiliza para mejorar la eficiencia.

Garantía de calidad y cumplimiento

Podemos lograr la pureza más alta requerida por nuestros clientes y podemos proporcionar certificación ISO 9001, certificado de origen e informes MTC.

Equipo avanzado

Estamos equipados con los últimos equipos de sinterización, un centro de mecanizado CNC y equipos de inspección y análisis. Y los técnicos también cuentan con más de 20 años de experiencia profesional.

Precios competitivos

En comparación con otros proveedores europeos y americanos, podemos ofrecer productos de alta-calidad y al mismo tiempo reducir los presupuestos de los clientes. Y el flete también es muy rentable-.

Servicio personalizado

Podemos personalizar la producción según los dibujos del cliente y también podemos diseñar y procesar según los requisitos del cliente.

Preguntas frecuentes

P: ¿Cuál es la pureza más alta de sus objetivos de pulverización catódica de iridio? ¿Cómo puedes probarlo?

R: La pureza más alta de nuestros objetivos de pulverización catódica de iridio (Ir) es 99,999% (5N). Proporcionamos un certificado de análisis (COA) de laboratorios de terceros-, incluidos los resultados de las pruebas de GDMS (espectrometría de masas de descarga luminosa) y pruebas ICP, para verificar el contenido de impurezas y garantizar la pureza del material.

P: ¿Cómo afecta el tamaño del grano al rendimiento de la pulverización catódica? ¿Cómo controla el tamaño del grano en su proceso?

R: El tamaño de grano uniforme y fino-garantiza una tasa de deposición estable, un espesor de película constante, una baja generación de partículas y una densidad de película uniforme durante la pulverización catódica.
Controlamos con precisión el tamaño del grano mediante un pretratamiento optimizado del polvo, prensado en caliente al vacío/sinterización HIP y tratamiento térmico post{0}}sinterización, logrando una microestructura fina, uniforme y con pocos-defectos para garantizar películas delgadas de alta-calidad.

P: ¿Qué formas y dimensiones están disponibles para sus objetivos de iridio?

R: Podemos personalizar los objetivos de pulverización catódica de iridio en varias formas, incluidos objetivos redondos, rectangulares planos, giratorios, de anillo circular,-escalonados y perfiles especiales personalizados.
Las dimensiones se pueden personalizar según los dibujos del cliente y abarcan tamaños estándar y no{0}}estándar, desde pequeños objetivos de laboratorio hasta objetivos de revestimiento industrial-a gran escala.

P: ¿Cómo mejorar la tasa de utilización de los objetivos de iridio durante la pulverización catódica?

R: Para aumentar la utilización objetivo, recomendamos:

Usar objetivos de iridio cilíndricos giratorios en lugar de objetivos planos, lo que puede mejorar significativamente la utilización.
Adoptar objetivos de microestructura uniforme y de alta-densidad para reducir la erosión y las partículas anormales.
Optimización del diseño del campo magnético del magnetrón y de los parámetros del proceso de pulverización catódica para lograr una erosión más uniforme.
También proporcionamos objetivos de iridio de alta-uniformidad para respaldar una mayor utilización en la producción real.

P: ¿Cuál es el costo de envío?

R: Esto depende principalmente del peso, volumen, la distancia desde el destino y el tamaño del paquete. Haremos todo lo posible para comunicarnos con la empresa de mensajería para ayudarle a obtener el costo de envío más razonable.

P: ¿Cuál es su tiempo de entrega?

R: Nuestro método de envío es principalmente por aire o mar. Una vez terminado el producto, utilizaremos cajas de madera, plástico o cartón para un embalaje hermético y también colocaremos algunos materiales suaves para evitar daños al producto. Te lo entregaremos lo antes posible, en un plazo de 20-30 días.

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