Objetivo de pulverización catódica de molibdeno

Descripción del objetivo de pulverización catódica de molibdeno

Molybdenum Sputtering Target es un material de pulverización muy respetuoso con el medio ambiente. Su pureza es generalmente superior al 99,95 por ciento. Tiene alta resistencia, buena conductividad eléctrica y térmica, bajo coeficiente de expansión térmica, estructura interna uniforme, buena resistencia a la corrosión y durabilidad. Fuerte y otras excelentes características. Se puede decir que la superficie de los objetivos de pulverización catódica de molibdeno es brillante, pulida y enrollada, y la forma puede ser redonda, rectangular y tubular. Los objetivos de pulverización catódica de molibdeno se utilizan a menudo en la industria de revestimiento al vacío, la industria aeroespacial, la industria automotriz marina, la industria de instrumentación y la industria fotovoltaica.

¿Qué es un objetivo de pulverización catódica?

Sputtering Targets se desarrolló en el siglo XX como una técnica de deposición de película delgada, un antiguo proceso de mecanismo físico de deposición de vapor, pero también tiene muchos usos en la tecnología y la fabricación modernas. El proceso comienza colocando el sustrato (u otro elemento que se va a recubrir) en una cámara de vacío que contiene dos imanes. Después de introducir un gas controlado, como el argón, en la cámara, los átomos se extraen del sustrato con un imán. Luego, estos átomos chocan entre sí en estado gaseoso, se condensan en un plasma y se secan en una película delgada sobre un sustrato, formando finalmente una capa delgada y duradera adecuada para recubrir una variedad de dispositivos. La pureza química del metal es la clave para la fabricación de objetivos de pulverización catódica. Cuanto mayor sea la pureza, mejor será el rendimiento de la película depositada.

Objetivo de pulverización catódica de molibdenoEspecificaciones:

Imágenes del objetivo de pulverización catódica de molibdeno:

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