Objetivo de pulverización rotatoria de níquel cromo

Descripción del objetivo de pulverización catódica rotativa de níquel cromo

Los objetivos de pulverización catódica rotativa de níquel-cromo generalmente se fabrican mediante fundición y vaciado, después de un proceso de electrólisis de tres capas, así como una serie de procesos mecánicos como esmerilado, torneado, laminado y corte, con una pureza que oscila entre el 99,5 % y el 99,99 %. Las películas delgadas pulverizadas por los objetivos de pulverización rotatoria de níquel cromo tienen baja dependencia de la temperatura, alta resistividad, alto coeficiente de sensibilidad, alta conductividad eléctrica y térmica, excelente resistencia a la oxidación, microestructura uniforme, superficie lisa sin poros y buena durabilidad, etc. En comparación con otros objetivos de pulverización de aleación , tiene mejores propiedades físicas y químicas. En la industria de revestimientos de PVD o CVD, los objetivos de pulverización catódica rotativa de níquel cromo y sus películas se utilizan ampliamente en películas de refuerzo de superficies, como resistencia al desgaste, reducción del desgaste, resistencia al calor y resistencia a la corrosión, así como vidrio de baja emisividad, microelectrónica, grabación magnética. , semiconductores y resistencias de película delgada y otras industrias de alta tecnología.

Objetivo de pulverización rotatoria de níquel cromo Especificaciones:

Imágenes de destino de pulverización catódica rotatoria de níquel cromo:

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