Objetivos de pulverización catódica de titanio y silicio

Descripción de los objetivos de pulverización catódica de titanio y silicio

El recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón es un nuevo tipo de método de recubrimiento por vapor físico, que utiliza un sistema de cañón de electrones para emitir y enfocar electrones en el material que se va a recubrir, de modo que los átomos pulverizados sigan el principio de conversión de momento, de modo que el material tenga una mayor mecánica. propiedades. El material a recubrir se denomina objetivo de pulverización catódica, que incluye principalmente metales, aleaciones y compuestos cerámicos. El objetivo de pulverización de titanio y silicio se puede dividir en objetivo plano, objetivo de arco, objetivo cilíndrico y objetivo tubular. A menudo se fabrica mediante un proceso de pulvimetalurgia y tiene excelentes propiedades físicas y químicas. Los objetivos de pulverización de titanio y silicio son la combinación perfecta de capas de material duro de nitruro, el silicio garantiza una alta resistencia a la oxidación y el titanio proporciona una dureza y una resistencia al desgaste excepcionales. Los objetivos de pulverización de titanio y silicio se utilizan ampliamente en la deposición de películas delgadas, la industria del vidrio, el recubrimiento al vacío, la industria de semiconductores, la industria electrónica, la tecnología de pulverización catódica de magnetrón y la industria de recubrimientos decorativos.

Especificaciones de los objetivos de pulverización catódica de titanio y silicio:

Imágenes de objetivos de pulverización catódica de titanio y silicio:

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