Objetivos de farfulla rotativos de circonio

Descripción de objetivos de pulverización rotatoria de circonio

Los objetivos de pulverización rotatoria de circonio están hechos de material de circonio de alta pureza después de una serie de procesamiento, con un tamaño y forma específicos de material de circonio de alta pureza, el proceso de uso es: el material objetivo se coloca primero en una cámara de vacío y luego se bombardea con alta- iones o electrones de energía, de modo que los átomos o moléculas son expulsados ​​de la superficie objetivo y depositados en la superficie del sustrato. Los objetivos de pulverización rotatoria de circonio tienen las características de alta pureza, buen rendimiento de procesamiento, velocidad de recubrimiento rápida y alta calidad, resistencia a la corrosión, resistencia a altas temperaturas, resistencia al desgaste, larga vida útil, etc. Puede proporcionar muy buena resistencia a la corrosión y altas temperaturas y bajas Protección de recubrimiento de temperatura para piezas importantes en la industria química o la industria aeroespacial. También se puede utilizar en la industria de recubrimiento de vidrio y en la industria de ingeniería electrónica de grandes áreas.

Para prolongar la vida útil de los objetivos de circonio, la clave es garantizar las condiciones adecuadas durante el almacenamiento y uso. Durante el almacenamiento, el objetivo debe mantenerse en un ambiente seco y con temperatura estable para evitar la oxidación o daños estructurales debido a la humedad y las fluctuaciones de temperatura. Durante el uso, es importante asegurarse de que el objetivo se use uniformemente para evitar un consumo local excesivo. Esto incluye una inspección periódica del objetivo en busca de desgaste e integridad estructural, así como medidas de ajuste adecuadas.

Especificaciones de los objetivos de pulverización rotatoria de circonio:

Imagen de objetivos de farfulla rotativa de circonio:

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