Blanco de pulverización

Objetivos PVD de aleación de aluminio y titanio

Objetivos PVD de aleación de aluminio y titanio Descripción El objetivo de recubrimiento es una fuente de pulverización catódica que forma varias películas funcionales sobre el sustrato mediante

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Objetivo de pulverización redondo de boro

Objetivo de pulverización catódica redondo de boro Descripción El objetivo de pulverización catódica redondo de boro es un material utilizado para la preparación de películas. Está hecho de

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Objetivo de pulverización catódica plana de cromo

Características y aplicación del objetivo de pulverización catódica plana de cromo El elemento de cromo original debe purificarse mediante una serie de procesos, como fundición a alta temperatura,

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Objetivo de pulverización catódica de cromo al 99,95 %

Objetivo de pulverización catódica de cromo al 99,95 por ciento Características y aplicación El objetivo de pulverización catódica de cromo al 99,95 por ciento es un objetivo de metal de alta pureza,

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Objetivos redondos de pulverización catódica de cromo

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Objetivos redondos de aleación de titanio y cromo

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Objetivo plano de cromo titanio

Titanium Chromium Planar Target es muy adecuado para pulverizar recubrimientos resistentes a la corrosión y al desgaste, que pueden proteger los equipos que trabajan en entornos químicos altamente

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Objetivos de pulverización de aluminio y titanio

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Blancos de Titanio-Aluminio

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Objetivos de titanio puro al 99,99 %

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Objetivos de pulverización catódica de titanio y silicio

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