Objetivo de pulverización de titanio de alta pureza

Alta pureza Titanio Pulverización Objetivo Descripción y Aplicación

El titanio es un metal refractario paramagnético con una fuerte tenacidad y alta resistencia, especialmente en un ambiente libre de oxígeno. Para los objetivos, cuanto mayor sea la pureza química del metal, mejor será la conductividad de la película hecha de él. La pureza de los objetivos de pulverización de titanio es tan alta como 99.99%. Se fabrica principalmente por el método de enfriamiento y fundición por haz de electrones, y finalmente se realizan varios tamaños y especificaciones de objetivos mediante diversos procesamientos mecánicos. La película delgada preparada por el objetivo de pulverización de titanio de alta pureza producido por nuestra empresa no solo tiene un alto brillo, una fuerte adhesión, un grosor uniforme y durabilidad, sino que también tiene una fuerte conductividad eléctrica, resistencia al desgaste y resistencia a la corrosión. El objetivo de pulverización de titanio de alta pureza es uno de los materiales centrales para la preparación de circuitos integrados, y se utiliza ampliamente en recubrimientos de herramientas de hardware, recubrimientos automotrices, recubrimientos decorativos, recubrimientos de vidrio, revestimientos de pantalla plana y dispositivos semiconductores y otros campos.

Objetivo de pulverización de titanio de alta purezaCaracterísticas técnicas:

Imágenes del objetivo de pulverización de titanio de alta pureza:

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