Componentes de implantación de iones de tungsteno
Descripción de los componentes de implantación de iones de tungsteno
La implantación de iones es un proceso que utiliza iones de alta energía para cambiar las propiedades físicas y químicas de los materiales. Puede controlar con precisión la concentración de dopaje y la distribución de profundidad. La implantación de iones en estos materiales puede cambiar significativamente sus propiedades eléctricas, ópticas y mecánicas, lo que la convierte en una aplicación crítica de semiconductores. elección ideal. Los componentes de implantación de iones de tungsteno se utilizan a menudo como materiales catódicos en implantadores de iones. Tienen alto punto de fusión, alta dureza, buena conductividad, fuerte resistencia a la corrosión, resistencia a altas temperaturas, buena estabilidad química, buen rendimiento de procesamiento, alta pureza y larga vida útil. Características. Los componentes de implantación de iones de tungsteno pueden garantizar la estabilidad y precisión de la implantación de iones y pueden usarse para fabricar diversos dispositivos semiconductores, como transistores, circuitos integrados, dispositivos microelectrónicos, células solares, etc.
Especificaciones de los componentes de implantación de iones de tungsteno:
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Calificación |
W1,W2,WMo |
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Técnica |
Laminación, Forja, Aplanamiento, Recocido, Mecanizado |
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Punto de fusion |
3410 grados |
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Pureza |
Mayor o igual al 95% |
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Tamaño y forma |
Según dibujos |
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Diámetro exterior máximo |
800 mm |
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Densidad |
19,3 g/cm33 |
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Superficie |
Pulido, limpieza química, recubrimiento en polvo, etc. |
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Estándar |
ASTM B777, estruendo, GB, ISO, JIS |
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Certificación |
ISO 9001 |
Imagen de componentes de implantación de iones de tungsteno:
Preguntas más frecuentes
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