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Objetivo de pulverización catódica de cromo de alta pureza
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Objetivo de pulverización catódica de cromo de alta pureza

Objetivo de pulverización catódica de cromo de alta pureza

Objetivo de pulverización catódica de cromo de alta pureza Descripción El cromo es un metal de transición de color gris acero, brillante, duro y quebradizo. El objetivo de pulverización catódica de cromo de alta pureza se produce generalmente mediante procesos de fusión al vacío o de prensado isostático en caliente. Tiene las características de alto punto de fusión, corrosión...
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Product Details ofObjetivo de pulverización catódica de cromo de alta pureza

Descripción del objetivo de pulverización catódica de cromo de alta pureza

El cromo es un metal de transición de color gris acero, brillante, duro y quebradizo. El objetivo de pulverización catódica de cromo de alta pureza se produce generalmente mediante procesos de fusión al vacío o de prensado isostático en caliente. Tiene las características de alto punto de fusión, resistencia a la corrosión, resistencia a altas temperaturas, resistencia al impacto, resistencia al desgaste, alta resistencia y dureza, y puede pulverizarse con alta pureza y adherencia. Película de alta calidad con altas propiedades, buena uniformidad, excelente resistencia a la corrosión, resistencia al desgaste y durabilidad. En la industria de procesamiento al vacío, el objetivo de pulverización catódica de cromo de alta pureza puede producir un haz de iones de cromo relativamente estable, lo que permite su uso para fabricar sustratos o revestimientos de superficies para proteger sustratos o para fabricar algunas industrias que requieren particularmente una alta resistencia a la oxidación. Componente. El objetivo de pulverización catódica de cromo de alta pureza se utiliza generalmente en procesos de procesamiento de PVD y CVD para producir revestimientos decorativos, revestimientos resistentes a la corrosión y revestimientos reflectantes. También puede recubrir recubrimientos de cromo de diferentes colores ajustando los parámetros del proceso.

Especificaciones del objetivo de pulverización catódica de cromo de alta pureza:

Calificación

CR009302,CR009500,CR009600,etc.

Técnica

Prensado isostático en caliente, refinamiento de grano, sinterización, forja, recocido

Pureza

99.95%,99.9%,99.99%,99.999%

Tipo

Objetivo de pulverización planar, objetivo de pulverización giratorio, cátodo Acr.

Espesor

3mm-40mm

Longitud

10 mm-2000mm

Diámetro

63 mm, 100 mm, 105 mm, 160 mm

Punto de fusion

1857 grados

Densidad

7,2 g/cm33

Forma

Discos, placas, objetivos de columna, objetivos de paso, hechos a medida

Superficie

Pulido, limpieza alcalina, esmerilado, óxido negro, etc.

Certificación

ISO9001, COA, MSDS

Imágenes del objetivo de pulverización catódica de cromo de alta pureza:

Chromium Planar Target

Chromium Sputter Target 2

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