Objetivo de óxido de niobio

Descripción del objetivo de óxido de niobio

La tecnología de pulverización catódica permite depositar películas de material de óxido o metal pulverizado de pureza ultraalta sobre otro sustrato sólido. Las películas de Nb2O5 se preparan mediante pulverización catódica y se explora la aplicación de materiales de óxido de niobio en dieléctricos de alto contenido dieléctrico, recubrimientos antirreflectantes y materiales sensibles a los gases. El objetivo de óxido de niobio generalmente está hecho de material de pentóxido de niobio mediante procesamiento de pulvimetalurgia o tecnología de pulverización catódica con magnetrón. Tiene alta densidad, alta pureza, tamaño de grano promedio mínimo, buena estabilidad electroquímica y características de transmisión electrónica, alto índice de refracción y baja dispersión, resistencia a altas temperaturas, resistencia a la corrosión, durabilidad y otras excelentes propiedades físicas y químicas.

Niobium Oxide Target no solo se puede utilizar para preparar películas de óxido de niobio, nanocables y otras nanoestructuras de alta calidad, sino también para preparar dispositivos electroquímicos como células solares eficientes y baterías de iones de litio, así como para preparar protección térmica y resistente a la corrosión. materiales de revestimiento.

Especificaciones del objetivo de óxido de niobio:

Imágenes de objetivos de óxido de niobio

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