Objetivo de metal de titanio

Descripción del objetivo de metal de titanio

El objetivo de metal de titanio se fabrica principalmente mediante el método de fundición por enfriamiento por haz de electrones. Tiene alta pureza, alta resistencia específica, buena tenacidad en un ambiente libre de oxígeno, fuerte rendimiento de soldadura y procesamiento, buena ductilidad, excelente conductividad térmica, resistencia al desgaste y biocompatibilidad. Tiene excelentes propiedades como buena resistencia, alta calidad de recubrimiento, larga vida útil y propiedades no magnéticas. Titanium Metal Target se utiliza principalmente para fabricar materiales en campos de alta tecnología como semiconductores, optoelectrónica y materiales magnéticos. Por ejemplo, en la industria de los semiconductores se utilizan en la fabricación de componentes electrónicos como fotodiodos, fototransistores, fotorreceptores y emisores. Además, Titanium Metal Target también se usa ampliamente en aleaciones de alta temperatura, materiales conductores, catalizadores químicos, componentes aeroespaciales y equipos médicos.

Especificaciones del objetivo de metal de titanio:

Imágenes del objetivo de Metal de titanio:

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