Objetivos de pulverización catódica de molibdeno (Mo)

Descripción de objetivos de pulverización catódica de molibdeno (Mo)

Como tecnología de vanguardia para la preparación de materiales de película delgada, la pulverización catódica tiene dos características: "alta velocidad" y "temperatura ultrabaja". Los objetivos de pulverización catódica de molibdeno (Mo) son sólidos bombardeados por un flujo de iones de alta velocidad durante el procesamiento de pulverización catódica, que pueden producir películas con alto brillo, alto color, durabilidad, resistencia a la corrosión, alta adhesión y larga vida útil. Los objetivos de pulverización catódica de molibdeno (Mo) a menudo se fabrican con molibdeno puro o materiales de aleación de molibdeno mediante pulvimetalurgia o fusión por haz de electrones. Desempeñan un papel importante en el campo médico y en la ciencia de materiales, química, física y otros campos.

Aplicación de objetivos de pulverización catódica de molibdeno (Mo):
1. Industria electrónica: el material objetivo de molibdeno se utiliza principalmente en pantallas planas, materiales de cableado y electrodos de batería de película delgada y materias primas de capas de barrera de dispositivos semiconductores.
2. Campo médico: se utiliza principalmente en el campo médico de generadores de rayos X, máquinas de tomografía computarizada, equipos de resonancia magnética, etc., para generar rayos X de alta energía para ayudar a los médicos a diagnosticar y tratar.
3. Campo aeroespacial: la película pulverizada por el objetivo se puede utilizar para mejorar el rendimiento de la superficie y la vida útil de componentes importantes.
4. Campo de investigación científica: puede ayudar a preparar la película de deposición química de vapor (CVD) y el análisis de materiales de microestructura.

Especificaciones de los objetivos de pulverización catódica de molibdeno (Mo):

Imágenes de objetivos de pulverización de molibdeno (Mo):

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