Objetivo de pulverización catódica de circonio

Descripción del objetivo de pulverización catódica de circonio

Además de los productos de titanio, los materiales de circonio también son uno de los materiales preferidos en los recubrimientos de herramientas. Es fácil formar una película de zirconia estable en la superficie y tiene una fuerte resistencia a la corrosión (resistencia a ácidos y álcalis). El objetivo de pulverización catódica de circonio a menudo se fabrica mediante un proceso de pulvimetalurgia, con baja densidad, alta resistencia específica, resistencia a la corrosión, resistencia a la radiación, excelente resistencia al desgaste, excelente rendimiento de procesamiento, no tóxico, no magnético, pequeña sección transversal de absorción de neutrones térmicos, etc. Características de la serie. Zirconium Sputter Target se ha utilizado ampliamente en el campo del recubrimiento PVD y, a menudo, se usa en industrias espaciales de almacenamiento de información óptica, como la deposición de películas delgadas, celdas de combustible, decoración, semiconductores, pantallas de visualización y recubrimientos funcionales. FANMETAL puede proporcionar a los clientes objetivos de pulverización catódica de circonio, como objetivos planos, redondos o con formas especiales, y brindará servicios de alta calidad con una velocidad y un precio satisfactorios.

Especificaciones del objetivo de pulverización catódica de circonio:

Imágenes del objetivo de pulverización catódica de circonio:

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