Objetivo de pulverización de oro

Descripción y aplicación del objetivo de pulverización catódica de oro

El oro es uno de los metales preciosos más bellos y un excelente conductor del calor y la electricidad. Gold Sputter Target está hecho principalmente de material de oro de alta calidad mediante el método de fundición o el método de pulvimetalurgia. Tiene excelentes propiedades como alta densidad, buena flexibilidad y ductilidad, excelente resistencia a la corrosión, resistencia al desgaste y durabilidad. La película de óxido de oro depositada por Gold Sputter Target se puede utilizar en la industria de LED, semiconductores, energía solar, aparatos fotovoltaicos, campos de investigación biológica y química, etc.

Aplicación de Gold Sputtering Target en tecnología SEM:

En la tecnología de recubrimiento del microscopio electrónico de barrido, los objetivos de pulverización catódica de oro son las materias primas clave, que pueden ayudar aún más a los operadores a observar mejor los cambios y la morfología de las muestras. A partir de la diferencia de conductividad eléctrica, se puede dividir en muestras conductoras y muestras no conductoras. Las muestras conductoras se pueden observar directamente. Para muestras no conductoras, Gold Sputter Target se usa para cubrir la muestra con una capa delgada de material conductor, que no solo puede evitar que el haz de electrones cargue la muestra en el modo SEM convencional, sino que también mejora aún más el efecto de observación y contraste de imagen

Objetivo de pulverización de oroEspecificaciones:

Imágenes del objetivo de la pulverización catódica de oro:

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