Objetivo de pulverización catódica de oro de alta pureza
Aplicación de objetivo de pulverización catódica de oro de alta pureza
A menudo, existen dos métodos para depositar recubrimientos de película delgada: pulverización catódica con magnetrón y evaporación por arco, el primero de los cuales es el más utilizado y conveniente, y el material necesario es un objetivo de pulverización catódica de metal. La calidad de su película depende del rendimiento del objetivo de metal. El oro es un metal de transición denso y suave que es muy dúctil y resistente. El objetivo de pulverización catódica de oro de alta pureza es el material clave para la tecnología de recubrimiento SEM, que puede proporcionar un buen efecto de observación para muestras no conductoras. El objetivo de pulverización catódica de oro de alta pureza se usa ampliamente en industrias como la aeroespacial, recubrimiento decorativo, iluminación, electrónica y semiconductores, comunicación óptica y recubrimiento al vacío.
Ventajas del objetivo de pulverización catódica de oro de alta pureza:
1. Alta pureza, excelente conductividad eléctrica y térmica.
2. Excelente resistencia al desgaste y resistencia a la corrosión, buena ductilidad
3. Su película conductora puede mejorar el contraste de la imagen y proteger la muestra.
4. Puede mejorar el brillo de los productos electrónicos, haciéndolos más resistentes al desgaste y atractivos
Especificaciones del objetivo de pulverización catódica de oro de alta pureza:
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Material |
Oro (Au) |
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Pureza |
99.99-99.999 por ciento |
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Tamaño |
Φ60mm |
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Densidad |
19,3 g/cm23 |
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Punto de fusion |
1064 grados |
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Superficie |
Fresado, pulido, negro, pulido brillante |
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El tiempo de entrega |
15-20 días |
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Estándar |
ASTM GB ANSI |
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Certificación |
ISO 9001 |
Imágenes de objetivos de pulverización catódica de oro de alta pureza:


Preguntas más frecuentes
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