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Objetivo de pulverización catódica de oro de alta pureza
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Objetivo de pulverización catódica de oro de alta pureza

Objetivo de pulverización catódica de oro de alta pureza

Aplicación de objetivo de pulverización catódica de oro de alta pureza A menudo hay dos métodos para depositar recubrimientos de película delgada: pulverización catódica con magnetrón y evaporación por arco, el primero de los cuales es el más utilizado y más conveniente, y el material necesario es un objetivo de pulverización catódica de metal. La calidad de su...
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Product Details ofObjetivo de pulverización catódica de oro de alta pureza

Aplicación de objetivo de pulverización catódica de oro de alta pureza

A menudo, existen dos métodos para depositar recubrimientos de película delgada: pulverización catódica con magnetrón y evaporación por arco, el primero de los cuales es el más utilizado y conveniente, y el material necesario es un objetivo de pulverización catódica de metal. La calidad de su película depende del rendimiento del objetivo de metal. El oro es un metal de transición denso y suave que es muy dúctil y resistente. El objetivo de pulverización catódica de oro de alta pureza es el material clave para la tecnología de recubrimiento SEM, que puede proporcionar un buen efecto de observación para muestras no conductoras. El objetivo de pulverización catódica de oro de alta pureza se usa ampliamente en industrias como la aeroespacial, recubrimiento decorativo, iluminación, electrónica y semiconductores, comunicación óptica y recubrimiento al vacío.

Ventajas del objetivo de pulverización catódica de oro de alta pureza:

1. Alta pureza, excelente conductividad eléctrica y térmica.

2. Excelente resistencia al desgaste y resistencia a la corrosión, buena ductilidad

3. Su película conductora puede mejorar el contraste de la imagen y proteger la muestra.

4. Puede mejorar el brillo de los productos electrónicos, haciéndolos más resistentes al desgaste y atractivos

 

Especificaciones del objetivo de pulverización catódica de oro de alta pureza:

Material

Oro (Au)

Pureza

99.99-99.999 por ciento

Tamaño

Φ60mm

Densidad

19,3 g/cm23

Punto de fusion

1064 grados

Superficie

Fresado, pulido, negro, pulido brillante

El tiempo de entrega

15-20 días

Estándar

ASTM GB ANSI

Certificación

ISO 9001

 

Imágenes de objetivos de pulverización catódica de oro de alta pureza:

Gold Sputtering Target

High Purity Gold Sputtering Targets

 

Preguntas más frecuentes

P: ¿Es usted fabricante o empresa comercial?

R: Somos una empresa comercial, pero podemos ofrecerle productos de muy alta calidad a muy buen precio. No dude en enviarnos un correo electrónico.

P: ¿Aceptan personalizados?

R: Sí, aceptamos. Diseñaremos y proporcionaremos productos de acuerdo con la información específica que proporcione.

P: ¿Cuál es su costo de envío?

R: Esto depende principalmente del peso, el volumen, la distancia desde el destino y el tamaño del paquete. Haremos todo lo posible para comunicarnos con la empresa exprés para ayudarlo a obtener el costo de envío más razonable.

P: ¿Cuál es su tiempo de entrega?

R:Después de fabricar todos los productos, se los enviaremos en un plazo aproximado de 15-20 días lo antes posible.

P: ¿Inspeccionan los productos terminados?

R: Sí. Cada paso de la producción y los productos terminados serán inspeccionados por el departamento de control de calidad antes del envío.

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