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Objetivo de pulverización de metales

Objetivo de pulverización de cromo

El cromo es un metal de transición gris acero, brillante, duro y quebradizo que requiere un alto grado de pulido para evitar la decoloración. Los objetivos de pulverización de cromo tienen las mismas

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Objetivo de pulverización de titanio y silicio

FANMETAL suministra el objetivo de pulverización de titanio y silicio de aleación Ti-Si utilizado en el sistema de recubrimiento PVD. Composición de la aleación TiSi: 85:15 por ciento 80:20 por

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Objetivo de pulverización de titanio

FANMETAL suministra Pure 99.999% Titanium Sputtering Target. Pureza del 99,5% al 99,9999%. En la actualidad, para el VLSI de 4 megabits, se requiere que la pureza del titanio alcance 4N5 (99.995%) ~

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Objetivo de pulverización catódica de circonio

FANMETAL suministra el objetivo de pulverización catódica de circonio utilizado en el sistema de recubrimiento PVD. Material circonio puro Zr702. También proporcionamos otro objetivo de metal y

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Objetivo de pulverización de titanio de tungsteno

FANMETAL suministra el objetivo de pulverización de aluminio de tungsteno de aleación W-Ti utilizado en el sistema de recubrimiento PVD en el campo de los semiconductores. Contenido de Ti 10 por

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Somos conocidos como uno de los principales fabricantes y proveedores de objetivos de pulverización catódica de metales en China. Si va a comprar un objetivo de pulverización catódica de metal de alta calidad a un precio competitivo, bienvenido a obtener un presupuesto de nuestra fábrica. Además, se ofrece un servicio personalizado.