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Objetivo de pulverización de metales

Objetivo de pulverización catódica de molibdeno

Objetivo de pulverización catódica de molibdeno Descripción El objetivo de pulverización catódica de molibdeno es un material de pulverización catódica muy respetuoso con el medio ambiente. Su pureza

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Objetivo redondo de molibdeno

Descripción y aplicación del objetivo redondo de molibdeno El objetivo redondo de molibdeno se compone principalmente de un objetivo en blanco, una placa posterior y otras partes. Los dos requieren

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Blanco de pulverización catódica de cobre

Objetivo de cobre para pulverización catódica Descripción y aplicación Los objetivos de pulverización catódica son una clase especial de materiales que se utilizan principalmente en las industrias de

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Blanco redondo de tungsteno

Característica y aplicación del objetivo redondo de tungsteno El objetivo redondo de tungsteno es un producto típico de los productos de tungsteno en la industria electrónica. Está hecho

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Blanco de pulverización catódica redonda de tungsteno

Objetivo redondo de tungsteno para pulverización catódica Descripción y aplicación El objetivo es uno de los materiales indispensables para la tecnología de pulverización catódica de magnetrón, y el

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Objetivo del recubridor de pulverización catódica de cromo

Cromo Sputter Coater Target Descripción Chromium Sputter Coater Target tiene las mismas propiedades que el cromo metálico, principalmente alta resistencia, alta dureza, alta resistencia a la

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Objetivos de pulverización catódica de cromo cr

Objetivos de pulverización catódica de cromo cr Descripción y aplicación El metal cromado es plateado, brillante, muy pulido como un espejo y muy duro, y se utiliza principalmente para fabricar

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Objetivo de níquel ASTMB865

ASTMB865 Descripción del objetivo de níquel Los objetivos de níquel están hechos principalmente de metal de níquel de alta pureza, que se ha sometido a procesos de procesamiento como fusión por haz

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Objetivo de pulverización de titanio de alta pureza

Alta pureza Titanium Sputtering Target Descripción y aplicación El titanio es un metal refractario paramagnético con una fuerte tenacidad y alta resistencia, especialmente en un entorno libre de

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Objetivo de pulverización de níquel

Níquel Sputtering Target Descripción El níquel es un metal blanco plateado con buen ferromagnetismo y plasticidad, utilizado principalmente en la fabricación de aleaciones, acero inoxidable, monedas

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Objetivo de pulverización de silicio de aluminio

Aleación de silicio de aluminio es una aleación de forja compuesta principalmente de aluminio y silicio, y también es un material con un bajo coeficiente de expansión. Los métodos de producción de

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Objetivo de pulverización de cromo titanio

Los objetivos de pulverización de cromo de titanio a menudo se fabrican utilizando procesos de pulvimetalurgia, por lo que la microestructura es más uniforme y fina que los materiales producidos por

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