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Objetivo de pulverización de metales

Objetivo de pulverización catódica de cromo de alta pureza

Objetivo de pulverización catódica de cromo de alta pureza Descripción El cromo es un metal de transición de color gris acero, brillante, duro y quebradizo. El objetivo de pulverización catódica de

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Objetivos de farfulla de boro al 99,5%

Objetivos de pulverización catódica de boro al 99,5% Descripción El objetivo de recubrimiento es una fuente de pulverización catódica que forma varias películas funcionales sobre el sustrato mediante

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Objetivos de pulverización catódica de molibdeno (Mo)

Objetivos de pulverización catódica de molibdeno (Mo) Descripción Como tecnología de vanguardia para la preparación de materiales de película delgada, la pulverización catódica tiene dos

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Objetivo de metal de titanio

Descripción del objetivo de metal de titanio El objetivo de metal de titanio se fabrica principalmente mediante el método de fundición por enfriamiento por haz de electrones. Tiene alta pureza, alta

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Objetivos de pulverización catódica de níquel metal

Objetivos de pulverización catódica de níquel metálico Descripción En la industria, el níquel se utiliza comúnmente en la preparación de aleaciones, la producción de baterías y como catalizador.

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Objetivos de pulverización catódica de metal cromado

Objetivos de pulverización catódica de metal con cromo Descripción El cromo tiene un alto punto de fusión y buena resistencia a la oxidación, lo que permite que el objetivo de cromo permanezca

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Objetivo de pulverización de aleación de titanio TiAl

Objetivo de pulverización catódica de aleación de titanio TiAl Descripción El objetivo de pulverización catódica se refiere a la materia prima utilizada en el proceso de deposición de pulverización

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Objetivos PVD de aleación de aluminio y titanio

Objetivos PVD de aleación de aluminio y titanio Descripción El objetivo de recubrimiento es una fuente de pulverización catódica que forma varias películas funcionales sobre el sustrato mediante

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Objetivo de pulverización redondo de boro

Objetivo de pulverización catódica redondo de boro Descripción El objetivo de pulverización catódica redondo de boro es un material utilizado para la preparación de películas. Está hecho de

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Objetivo de pulverización catódica plana de cromo

Características y aplicación del objetivo de pulverización catódica plana de cromo El elemento de cromo original debe purificarse mediante una serie de procesos, como fundición a alta temperatura,

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Objetivo de pulverización catódica de cromo al 99,95 %

Objetivo de pulverización catódica de cromo al 99,95 por ciento Características y aplicación El objetivo de pulverización catódica de cromo al 99,95 por ciento es un objetivo de metal de alta pureza,

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Objetivos redondos de pulverización catódica de cromo

Objetivos redondos de cromo para pulverización catódica Descripción El cromo metálico se utiliza principalmente como materia prima para la producción de diversas aleaciones. La producción industrial

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